Фото: beneq.com
По информации Upakovano.ru, финская компания Beneq, один из ведущих мировых производителей промышленного оборудования по нанесению тонкопленочных покрытий, подписала соглашение о поставке установки WCS 500 для создании покрытия по технологии осаждения материалов слоем толщиной в несколько атомов (Atomic Layer Deposition, ALD) в адрес лаборатории по исследованию современных технологий поверхности (Advanced Surface Technology Research Laboratory — Astral), научно-исследовательского подразделения технологического университета в городе Лаппеенранте (Финляндия).Лаборатория Astral будет использовать установку для изучения упаковочных пленок с барьерными свойствами и процессов в зависимости от областей применения материалов.
Руководитель подразделения барьерных покрытий компании Beneq Микко Сёдерлунд (Mikko Söderlund) отметил, что установка ALD используется в научно-исследовательской деятельности, изготовлении микроэлектроники и позволяет добиться 10—20-кратного увеличения производительности.

Установки WCS 500 для создания покрытия по технологии осаждения материалов слоем толщиной в несколько атомов
Установка ALD способна создавать пленки на любых поверхностях толщиной до нескольких молекул, используя температуру менее 100°C, что дает возможность применять это оборудование в изготовлении компонентов печатной и органической продукции.
По утверждению Beneq, ALD — оптимальное решение для производителей и поставщиков упаковочных пленок.


Comments (0)
Twitter
Facebook
Pinterest
E-mail